無掩模納米光刻機采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
新一代激光直寫光刻設備特點
具有核心知識產權的國產激光直寫設備
具有超越衍射極限的加工能力
納米光電子設備可適用于多種受體材料
本公司可根據客戶需要提供定制設備并提供各種微納結構樣品的加工服務。
一、激光直寫系統(tǒng)的工作原理
激光直寫系統(tǒng)是一種利用激光束直接刻寫三維結構的制造方法，其基本工作原理如下：
首先，計算機輔助設計（CAD）軟件將所需制造對象的三維模型轉換為數字信號，并發(fā)送給該產品的控制器。
然后，激光束聚焦到極小尺寸（通常小于1微米），通過掃描控制器按照預定軌跡精確地切割或燒蝕材料表面。此時，激光束強烈的能量密度使得原材料表面發(fā)生物理、化學反應，形成被切割、燒蝕的結構。
最后，重復以上步驟，直到制造對象的所有部分都被刻寫完成。整個過程由計算機程序控制，可以自動化操作。
無掩模納米光刻機
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