無錫超純水設備|半導體行業超純水設備

超純水設備是采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。

工作原理：

1. 水進入純化系統，主要部分流入樹脂，膜內部，而另一部分沿模板外側流動，以洗去透出膜外的離子。

2. 樹脂截留水中的溶存離子。

3. 被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動。

4. 陽離子透過陽離子膜，排出樹脂，膜之外。

5. 陰離子透過陰離子膜，排出樹脂，膜之外。

6. 濃縮了的離子從廢水流路中排出。

7. 去離子水從樹脂，膜內流出。

設備特點

1: 整體化程度高 , 易于擴展 , 增加膜數量即可增加處理量。

2: 自動化程度高 , 遇故障立即自停 , 具有自動保護功能。

3: 膜組件為復合膜卷制而成 , 表現出更高的溶質分離率和透過速率。

4: 能耗低 , 水利用率高 , 運行成本低。

5: 結構合理 , 占地面積少。

6: 先進的膜保護系統 , 在設備關機 , 淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈 , 延長膜壽命。

7 系統無易損部件 , 無須大量維修 , 運行長期有效。

8: 設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。

工藝流程

醫藥行業制備超水的工藝大致分成以下幾種：

1、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 設備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點

2、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→ 微孔過濾器→用水點

3、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點

主要用途

1、超純材料和超純試劑的生產和清洗。

2、電子產品的生產和清洗。

3、電池產品的生產。

4、半導體產品的生產和清洗。

5、電路板的生產和清洗。

6、其他高科技精細產品的生產。

行業標準

超純水水質分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。

制取要求：

新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

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